28nm以上制程的成熟芯片有望实现全流程国产化了！9月9日，工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知：目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中，氟化氩光刻机的核心技术指标为：光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。有消息称，国产氟化氩光刻机... 在2024...